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薄膜沉积
CTECH是一家基于原子层沉积(ALD)技术
提供
薄膜沉积方案
的专业公司
我们即提供研发服务,也提供
ALD设备
我们可以针对客户的具体需求提供定制化的创新解决方案
A
LD技术的优势
ALD是一种可以实现原子级精度薄膜沉积的技术
在对薄膜质量和均一度有极高要求的应用领域,ALD方法具有明显的优势
可以通过ALD方法沉积很多材料:氧化物、氮化物、碳化物、金属、氟化物、有机物等
应用
ALD可以应用于诸多领域:电子、光电、光纤、能源、生物技术、冶金等
服务和解决方案
CTECHnano与其客户密切合作,针对客户的具体需求停供定制化的创新解决方案
研发服务
开发新的薄膜包覆工艺,改进现有的ALD工艺,售后技术支持
薄膜沉积包覆服务
薄膜沉积包覆技术咨询
薄膜沉积系统
设计、生产、组装、测试薄膜沉积系统
改进优化现有的薄膜沉积系统
售后技术支持
原子层沉积系统
基础型
入门级别,高性价比
标准型
多个尺寸的腔室可供选择
扩展型
可调灵活腔室,具备不同的体积,适用于各种形状和尺寸的2D-3D样品
高度定制化型
可针对客户需求,定制薄膜沉积系统
业界标杆
通过创新的解决方案和应用,CTECHnano正在不断开拓ALD的应用领域。
可对传统二维材料、生物激发结构、复合材料、多孔模板和三维复杂纳米结构的组成和物理化学性质实现均匀的控制。